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2019, v.5(23) 126-127

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浅谈电子级多晶硅的清洗工艺

安生虎;陈叮琳;

摘要(Abstract):

表金属杂质含量是电子级多晶硅一项重要的质量指标,目前电子级多晶硅在降低表面金属杂质含量的除杂技术上主要以酸清洗为主,通过不同程度的表面刻蚀将表金属杂质控制在较低水平。文章主要对电子级多晶硅料化学清洗工艺,尤其从电子级多晶硅表金属控制中清洗液的选择方面进行相关的论述。

关键词(KeyWords): 电子级多晶硅;清洗;杂质

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 安生虎;陈叮琳;

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